单面对准光刻机

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厂商及型号

ABM/6/350/NUV/DCCD/M

性能参数

6英寸光源系统;光强均匀性:--<±3%;接触式样曝光特征尺寸CD:0.5um;接近式曝光:小于1um(20um间距时);正面对准精度:±0.5um;显微系统90-600倍数连续放大;支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻,特征尺寸:100um-300um。

服务功能

用于器件制备中的光刻过程,是进行器件所需微纳结构制备的关键设备。