成果 企业 设备 专家 政策 院所 资本
设备 / 实验室常用设备

单面对准光刻机

浏览次数

520

收藏次数

0

接洽次数

0

厂商及型号

ABM/6/350/NUV/DCCD/M

性能参数

6英寸光源系统；光强均匀性:--<±3%；接触式样曝光特征尺寸CD：0.5um；接近式曝光：小于1um（20um间距时）；正面对准精度：±0.5um；显微系统90-600倍数连续放大；支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻，特征尺寸：100um-300um。

服务功能

用于器件制备中的光刻过程，是进行器件所需微纳结构制备的关键设备。
提交需求
Copyright@2018-2022 中科智汇工场科创大数据平台