磁控溅射设备

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厂商及型号

PVD 75

性能参数

PVD Process Chamber PVD:D-shaped, 304 SS, 14” wide x 14” deep x 24” high, 5 x 10-7

服务功能

用于微纳器件表面进行金属、介质薄膜蒸镀,是进行微纳器件制备的关键设备