成果 企业 设备 专家 政策 院所 资本
设备 / 实验室常用设备

脉冲激光沉积镀膜系统

浏览次数

508

收藏次数

0

接洽次数

0

厂商及型号

PLD 180

性能参数

高真空9x 10^-9torr；六个靶盘；2英寸基片；基片最高温度：850度；

服务功能

可用来制备金属、半导体、超导材料、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等
提交需求
Copyright@2018-2022 中科智汇工场科创大数据平台