脉冲激光沉积镀膜系统

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厂商及型号

PLD 180

性能参数

高真空9x 10^-9torr;六个靶盘;2英寸基片;基片最高温度:850度;

服务功能

可用来制备金属、半导体、超导材料、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等