亚微米紫外光刻掩模对准系统(纳米区域中心)

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厂商及型号

德国Suss MicroTec Gmbh N5230A

性能参数

亚微米紫外光刻掩模对准系统采用波长为365 nm的紫外光源,制作亚微米的图形,最小线宽0.5微米,晶片尺寸为2-5英寸。

服务功能

亚微米紫外光刻掩模对准系统采用波长为365 nm的紫外光源,制作亚微米的图形,最小线宽0.5微米,晶片尺寸为2-6英寸。