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设备 / 实验室常用设备

离子束刻蚀系统(纳米区域中心)

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厂商及型号

LKJ-3D-150

性能参数

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服务功能

适用于金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体、超导体等材料的物理溅射刻蚀。主要应用：制造HgGdTe、PbS或InSn等红外器件；声表面波器件；磁记录器件；ULSI电路的光刻板（铬版）；各种精密光栅；表面抛光、减薄等。
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