离子束刻蚀系统(纳米区域中心)

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厂商及型号

LKJ-3D-150

性能参数

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服务功能

适用于金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体、超导体等材料的物理溅射刻蚀。主要应用:制造HgGdTe、PbS或InSn等红外器件;声表面波器件;磁记录器件;ULSI电路的光刻板(铬版);各种精密光栅;表面抛光、减薄等。