厂商及型号
Oxford 国 Plasmalab 80 plus
性能参数
205mm或240mm直径的温度可以调节的下电极，每批最大处理能力为9x2”、4x3”、2x4”、1x6”、1x8”;13.56MHz,30/300W的射频电源以及紧耦合、低损耗的自动匹配网络（Close-coupled Automatic Matching Network），更加保证了工艺的重复性; 控制工艺气体流量及配比的外部Gas Pod，最多可配置6路气体管路.
服务功能
InP、GaAs、GaN等三五族材料的刻蚀; SiO2，SiNx刻蚀; 各种金属刻蚀.
