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设备 / 实验室常用设备

磁控溅射台（八室）

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厂商及型号

SP-3

性能参数

镀片均匀性5%，控制速率0.1a-0.4a

服务功能

可用于各种金属薄膜（如Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、ITO等）的淀积
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