ICP-电感耦合等离子体刻蚀系统-Sentech1#【四室】

浏览次数

53

收藏次数

0

接洽次数

0

厂商及型号

SI500

性能参数

刻蚀均匀性:±3%

服务功能

衬底尺寸:4英寸及以下;工艺气体:CF4, CHF3, Ar, BCl, Cl2, C2H2, SiCl4 可以做GaN,SiC,GaAs,Si等材料刻蚀工艺