激光直写光刻系统

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厂商及型号

Heidelberg DWL66+

性能参数

激光波长405nm,最大基板面积9′x9′,有效光刻面积 200mmx200mm,最小线宽600nm,套刻对准精度100nm

服务功能

用于亚微米尺度的图形化工艺及掩模版制备工艺,可在各种衬底上进行激光直接光刻工艺