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Heidelberg DWL66+
性能参数
激光波长405nm，最大基板面积9′x9′，有效光刻面积 200mmx200mm,最小线宽600nm,套刻对准精度100nm
服务功能
用于亚微米尺度的图形化工艺及掩模版制备工艺，可在各种衬底上进行激光直接光刻工艺
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