多靶磁控溅射镀膜机

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厂商及型号

Denton Vacuum Discovery 14

性能参数

极限真空: ≤ 8×10-8Torr 镀膜均匀性:优于±5%(直径6英寸基片) 基片尺寸: ≤直径6英寸

服务功能

用于制备半导体器件的金属薄膜以及非金属介电质