厂商及型号
日本电子 IB-09010CP
性能参数
离子加速电压：2-6KV；离子束直径：500μm(FWHM)；研磨速度：100μm/H ；搭载样品最大尺度：11mm（宽）×10mm（长）×2mm（厚）；样品移动范围：X轴 ±10mm Y轴 ±3mm样品旋转角度：±5o；加工摆角：±30o；
服务功能
1）本仪器适用于粉体及尺寸<11mm（宽）×10mm（长）×2mm（厚）的块体、薄膜、纤维、矿物等固体试样制作截面结构观测样品，目的是制备出光滑且不损坏内部结构的横截面以进行试样内部结构及形态的观测表征。
2）不管是用机械研磨法难以制备的样品，还是软硬材质混合的复合材料，都能够制备出光滑的截面。
3）可以获得平滑的镜面抛光效果。与机械研磨法相比，使用截面抛光仪（CP）制备的样品变形小、晶体结构不易破坏，因而最适合于晶体取向分析（EBSD）的前处理。
4）能够制备出宽度大约为1mm的大截面，非
