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设备 / 实验室常用设备

研磨抛光系统

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厂商及型号

美国Buehler //Buehler MPC 2000

性能参数

材料去除自动控制精度：2微米； 磨盘转速：1~50转/分； 磨制情况观察：200倍观察器； 适用材料：微电子元件、金属材料、陶瓷、矿物、复合物等； 磨盘和制备表面；精密玻璃盘、金刚石磨料薄膜。

服务功能

适用于大多数的固态材料的SEM和TEM样品的制备。优秀的定点磨削和样品磨制状况的随时观察功能，尤其适用于电子类产品的失效分析实验。
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